首次！我国芯片领域取得新突破
发布时间：2025-10-31 05:00:35 作者：玩站小弟 
我要评论
我要评论 光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结
。
光刻技术是首次推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，国芯北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，片领绍兴市某某烘焙运营部首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的得新微观三维结构、界面分布与缠结行为，突破指导开发出可显著减少光刻缺陷的首次产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。国芯
“显影”是片领光刻的核心步骤之一，通过显影液溶解光刻胶的得新绍兴市某某烘焙运营部曝光区域，将电路图案精确转移到硅片上。突破光刻胶如同刻画电路的首次颜料，它在显影液中的国芯运动，直接决定电路画得准不准、片领好不好，得新进而影响芯片良率。突破长期以来，光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”，工业界的工艺优化只能靠反复试错，这成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈之一。
为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的三大痛点。
彭海琳表示，冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上解析各类液相界面反应提供了强大工具。深入掌握液体中聚合物的结构与微观行为，可推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升。
来源：科技日报
作者: 张盖伦
相关文章
越来越多的人饱受湿疹、哮喘、过敏性鼻炎等过敏问题困扰。过敏，已经成了人们每年绕不开的话题。除了避免过敏原、药物治疗，科学合理的营养策略是防治过敏的第三大支柱。2025-10-31
7月30日，广东省佛山市对外发布，根据突发公共卫生事件有关应急预案，结合当前佛山市基孔肯雅热疫情防控形势，决定启动佛山市突发公共卫生事件Ⅲ级响应。 总台记者 陈旭婷）2025-10-31
日本气象厅在当地时间7月30日下午的记者会上称，预计海啸影响至少还会持续一天左右。 堪察加东岸远海30日早发生强震后，日本气象厅对全国17个地区发布海啸预警，称预计部分地区将出现最高3米的海浪，2025-10-31
△特朗普资料图） 当地时间8月1日，美国总统特朗普在社交平台“真实社交”发文，呼吁美联储主席鲍威尔辞职。 特朗普在文中提到，前总统拜登任命的美联储理事阿德里亚娜·库格勒此前已宣布辞职。他称库格勒“2025-10-31
加沙地带民防部门当地时间28日晚表示，以军当天对加沙城南部的袭击造成至少2人死亡，4人受伤。 此外，有两名美国官员称，以色列在对加沙进行最新一次袭击之前已通知美国。 以色列总理办公室28日发表2025-10-31
版权声明：本文版权为网易汽车所有，转载请注明出处。网易汽车7月30日报道深蓝汽车近日正式宣布，S05超长续航纯电版将于近期上市，新车CLTC工况续航里程达620km，较现款510km版本提升21.5%2025-10-31
最新评论